该系列设备采用金属模式溅射技术与高反应性等离子体源相结合，进出料室配备机械手自动传输基片，批量生产中的均匀性<1%，实现高效生产。 RF-ICP/CCP专利离子源，具有工作范围广，能量均衡，高离化率，高稳定工作效率，低耗能等特点，清洗基板及辅助镀膜，提高薄膜品质。设备便捷灵活，在大规模生产中可以简单快速切换工艺和基板，双旋转圆柱阴极，稳定放电，多对直流/中频磁控阴极，支持不同材料，阴极磁场在线调节，靶材利用率高，提高薄膜均匀性。现场先进的过程控制技术，等离子体监控与宽带光学监控相结合，提供优异的光学性能，提高产量。 广泛应用于玻璃、塑料或金属等2D/2.5D/3D基板上镀高精度光学薄膜，镀制UV/IR截止滤光片、带通滤光片、RGB滤光片、激光雷达、AR、硬质AR膜、硬质膜（Si3N4或DLC）、HR膜、AS/AF膜、电介质膜（Ta2O5、Nb2O5、SiO2、Al2O3、TiO2、SiN、SiON）、透明导电膜（ITO）、金属膜（钽、钛、铝、铬、铜）、装饰膜（CrN、CrON）、半导体（非晶硅，硅）等。