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MPD双光子三维激光直写光刻机
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产品介绍
真三维无掩膜光刻,可实现高自由度纳米级三维结构制造,最小特征尺寸可达50nm。为多个领域的研究发展提供先进的高精度、三维制造解决方案,应用领域包含但不限于微纳光学器件、微/纳流控芯片、片上光互联、微机械等。
展商信息
    杭州玉之泉精密仪器有限公司
  • 展商展区
  • 展商展馆
    A1
  • 展位号
    A3-A78
  • 主营产品
  • 公司简介
    杭州玉之泉精密仪器有限公司是一家立足于国家战略目标、集优秀技术人才、致力于解决国家“卡脖子”光刻技术的高端光学精密仪器研发公司。 创始股东由在光学研究领域深耕多年的浙大教授和管理经验丰富的企业家组成,公司于2022年正式成立,总部位于中国杭州,研发人员75%以上,研发团队硕博比90%以上。自成立以来,公司已获国家科技型中小企业认定、省级科技型中小企业认定,万物生长大会种子独角兽企业,2024年度中国光学学会科技创新奖特等奖技术发明奖,2024年度前沿创新新锐企业等多项殊荣。 公司作为国产直写光刻设备研发生产的主力军,掌握多项核心专利技术,设备在加工线宽等核心参数方面超越国外同类竟品。 公司主要产品为·MPD 双光子光刻机、UVD紫外光刻机、FSD品体光刻机,VOP生物组织光刻机,包含3项全球唯一技术,覆盖10+关键应用领域,构建全产业链战略合作关系。
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