1.主要产品：紫外/深紫外光刻机(桌面手动式/半自动/自动) PHABLE光刻机基于Eulitha专利光刻技术——位移泰伯效应光刻（Displacement Talbot Lithography，DTL）。利用紫外、深紫外光源经过光刻版后形成的自成像衍射光场，结合积分扫描曝光，实现高效率地曝光大面积纳米周期/准周期图案。 PHABLE™光刻系统经过不断升级换代，可实现60nm线宽低成本高效率曝光；设备机型从UV到DUV，从桌面手动机型到12英寸大面积全自动曝光，满足科研到批量生产的各种应用需求。 特点 ◉ DTL专利技术:高分辨率60nmL/S ◉ 非接触:提高良率、延长光刻版寿命 ◉ 高景深:适合曲面、厚胶的光刻 ◉ 大面积:无拼接、高效率 ◉ 高性价比:设备价格及维护成本低提供工艺及掩模版设计制作支持 应用 ◉ 光电器件：DFB、VCSEL、PSS ◉ 光学器件：WSS、DOE、FBG、WGP ◉ XR：SRG和VHG衍射光波导、ARHUD ◉ 玻璃表面特殊纳米结构 ◉ 生物仿生 2.纳米模板加工服务 针对1D和2D纳米周期性标准结构，高性价比模板，可用于生产、开发、实验。